(GT28年目)
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2017年度第2回委員会の御案内

　　　　　参加予定者

　　　　　　　　　　　　　　　　記

日　時　　　平成29年6月28日（水）15:00-19:00　　

場　所　　　名古屋工業大学　校友会館１階（正門入ってすぐ右手突当たり）
　　　　　　　466-8555　名古屋市昭和区御器所町
　　　　　　　ＪＲ中央線「鶴舞」下車　東へ徒歩10分
　　　　　　　地下鉄鶴舞線「鶴舞」下車　東へ徒歩15分

講演会　　「高速噴流を使用したプラズマCVD中でのシリコン高速製膜」
　　　　　　　　　　岐阜大学　西田哲氏

　　　　　「吸着・化学反応を用いた熱ハンドリング技術の動向」
　　　　　　　　　　名古屋大学　窪田光宏氏

懇談会　　　名古屋工業大学　校友会館１階 17:00-19:00

参加申込　懇談会参加の有無を御記入いただき、6月21日（水）までに
　　　　　　　名古屋工業大学ながれ領域南雲亮までお申し込み下さい。
　　　　　　　懇談会に参加される方は4,000円を当日申し受けます。
　　　　　　　Email nagumo＠nitech.ac.jp

◎会場地図

●2017年度のGT行事計画
・第3回　2017年8月・校友会館・KHネオケム（株）、日本ソセー工業（株）
・第4回　2017年10月・校友会館・中央化工機（株）、アイカ工業（株）
・第5回　2018年2月・・

★共催・協賛行事